序号 | 条款位置 | 修改前 | 修改后 |
1 | 1.总体技术指标需求第(1)条 | ※(1)KM(略)A大尺寸真空环境模拟装置包含等离子环境模拟舱、真空单元、温控单元、测控单元、低反射环境等; | ※(1)KM(略)A大尺寸真空环境模拟装置包含等离子环境模拟舱(不包含等离子体源)、真空单元、温控单元、测控单元、低反射环境等; |
2 | 1.总体技术指标需求第(8)条 | ※(8)低反射环境包括在KM(略)A内部部分区域安装适用于真空环境的刚性吸波材料、宽谱和窄谱微波辐射源等部分组成,通过低反射环境系统使得大尺寸真空环境模拟装置KM(略)A内部具备进行电磁兼容性测试能力,同时能满足微波、射频等方面的低反射测试环境等需求,主要分为低反射吸波内衬及转台测量子系统、电磁材料测试套件、宽谱高功率微波源、窄谱高功率微波源等;吸波材料频率范围2GHz≤f≤(略)GHz、面积不小于(略)m2、反射率大值≤-(略)dB(@1GHz),小值可达-(略)dB;宽谱高功率微波源峰值功率>3GW,窄谱高功率微波源功率>(略)MW; | ※(8)低反射环境包括在KM(略)A内部部分区域安装适用于真空环境的刚性吸波材料、宽谱和窄谱微波辐射源等部分组成,通过低反射环境系统使得大尺寸真空环境模拟装置KM(略)A内部具备进行电磁兼容性测试能力,同时能满足微波、射频等方面的低反射测试环境等需求,主要分为低反射吸波内衬及转台测量子系统、电磁材料测试套件、宽谱高功率微波源、窄谱高功率微波源等;吸波材料频率范围1GHz≤f≤(略)GHz、面积不小于(略)m2,1GHz时,反射率≤-(略)dB;(略)GHz时,反射率≤-(略)dB;宽谱高功率微波源峰值功率≥3GW,窄谱高功率微波源功率>(略)MW; |
3 | 1.总体技术指标需求第((略))条 | ※((略))暗室内尺寸不小于9m(长)×6m(宽)×6m(高);电波暗室测试频率范围(略)kHz~(略)GHz,屏蔽室测试频率范围(略)kHz~(略)GHz,按照GB/T (略)-(略)的规定进行。满足GB/T (略).3-(略)和GJB (略)C-(略)等标准对辐射抗扰度测试和辐射发射测试的要求;静区尺寸:(略) | ※((略))暗室内尺寸不小于9m(长)×6m(宽)×6m(高);电波暗室测试频率范围(略)kHz~(略)GHz,屏蔽室测试频率范围(略)kHz~(略)GHz,按照GB/T (略)-(略)的规定进行。满足GB/T (略).3-(略)和GJB (略)C-(略)等标准对辐射抗扰度测试和辐射发射测试的要求;静区尺寸:(略) |
4 | 5.测控单元技术指标第(4)条 | ▲(4)配备摄像照明系统。在真空容器内安装≥4个摄像头,分辨率≥(略)dpi,数据存储容量≥2T;实现在试验过程中对试验件的视频监控;可保证真空容器中心线照度≥(略)lux(大门关闭情况下); | ▲(4)配备摄像照明系统。在真空容器内安装≥4个摄像头,分辨率≥(略)万像素,数据存储容量≥2T;实现在试验过程中对试验件的视频监控;可保证真空容器中心线照度≥(略)lux(大门关闭情况下); |
5 | 6.低反射环境技术指标第6.1(1)条 | ▲(1)满足1–(略) GHz宽频吸收、总热量≥(略)kW功率容量、真空适应性及-(略)℃至(略)℃温度环境;不小于(略)m²;低频段大反射率不高于-(略)dB;低反射内衬系统应尽可能利用圆柱形罐体内部空间;吸波材料应适用1.3×(略)-5 Pa或更低的气压环境,且在-(略)℃至(略)℃范围内满足热循环与长期使用要求;满足模块化、可拆卸、可维护;不得粉化、脱落、挥发、污染腔体环境,不得形成大面积裸露金属反射面; | ▲(1)满足总热量≥(略)kW功率容量、真空适应性及-(略)℃至(略)℃温度环境;不小于(略)m²;低频段大反射率不高于-(略)dB;低反射内衬系统应尽可能利用圆柱形罐体内部空间;吸波材料应适用1.3×(略)-5 Pa或更低的气压环境,且在-(略)℃至(略)℃范围内满足热循环与长期使用要求;满足模块化、可拆卸、可维护;不得粉化、脱落、挥发、污染腔体环境,不得形成大面积裸露金属反射面; |
6 | 6.低反射环境技术指标第6.1(4)条 | ▲(4)转台要求方便推拉出,测量频率范围覆盖1GHz至(略)GHz,负载能力不小于(略)kg;方向角0-(略)°;支持自动扫描、步进扫描、连续扫描、限位保护、急停保护和远程控制;支持天线、超表面等远场方向图、极化、持近场等测试;转台需要内嵌到底部可抽拉吸波模块中,并适用于真空或低气压环境; | ▲(4)转台要求方便推拉出,测量频率范围覆盖1GHz至(略)GHz,负载能力不小于(略)kg;方向角0-(略)°;支持自动扫描、步进扫描、连续扫描、限位保护、急停保护和远程控制;支持天线、超表面等远场方向图、极化、近场等测试;转台需要内嵌到底部可抽拉吸波模块中,并适用于真空或低气压环境; |
7 | 6.低反射环境技术指标第6.2(5)条 | ▲(5)辐射场满足rE值≥(略)kV、输出峰值功率>1GW、重复工作频率1-(略) Hz连续可调,并具备单脉冲发射功能、上升沿<(略)ps,配备测试软件进行自动化测试并支持单次触发、连续重复触发和远程控制触发; | ▲(5)辐射场满足rE值≥(略)kV、重复工作频率1-(略) Hz连续可调,并具备单脉冲发射功能、上升沿<(略)ps,配备测试软件进行自动化测试并支持单次触发、连续重复触发和远程控制触发; |
8 | 6.低反射环境技术指标第6.4(1)条 | ▲(1)暗室满足不小于3米法电波暗室和GJB(略)A/B/C标准EMC测试场地要求。 | ▲(1)暗室满足不小于3米法电波暗室和GJB (略)C-(略)标准EMC测试场地要求。 |